近日，我院邀请了黎明职业大学校长王锋教授为师生做“ALD技术在光电信息产业中的应用”学术报告。院长张先增教授代表学院对王锋教授莅临学院指导交流表示热烈欢迎。本次报告是由光电与信息工程学院、医学光电科学与技术教育部重点实验室、福建省光子技术重点实验室共同主办的“旗山光电大讲堂-科学家论坛”系列活动之一。
原子层沉积技术是化学气相沉积的一种，基于气态前驱体在沉积表面发生化学吸附的纳米薄膜沉积技术，在产业技术领域有着重要的应用，更是行业升级的技术方向。报告会上，王锋教授介绍了原子层沉积(ALD)技术原理以及该技术在光学器件领域、功率半导体领域、微电子领域(MOSFET逻辑器件/DRAM/闪存/RRAM/FRAM)等方面的应用。特别是依托了省科技重大专项，研制出大尺寸ALD国产样机，应用在各类氧化物平面薄膜生长；在三维高深宽比结构中进行薄膜生长，利用ALD技术生长ZAZ叠层薄膜，并进行电学性能分析，此外前期探索了生长氧化镧栅介质材料的应用。最后王锋教授还介绍了存储芯片薄膜材料及设备研发课题组的情况。报告交流环节，与会师生积极地与王锋教授进行了深入的探讨和交流，让师生们对先进原子层沉积(ALD）技术原理及应用有了更深刻的认识。
