时间：2024年4月26日下午15:00
地点：理工楼18号楼-306会议室
主讲：王锋，教授，黎明职业大学党委副书记、校长
主办：光电与信息工程学院 医学光电科学与技术教育部重点实验室 福建省光子技术重点实验室
专家简介：
研究方向为半导体集成电路制造设备与工艺材料研发，先后承担国家重点研发计划、福建省科技重大专项等科研项目10多项。与德国、芬兰等多个国家的大学开展学术合作，是福建师范大学、湖南大学、东华大学、福州大学、华侨大学、芬兰奥卢大学研究生导师，担任全国试验机标准化技术委员会委员、全国数字化纺织材料产教融合共同体理事长和多家SCI收录国际性学术期刊审稿人。已发表相关论文10余篇、授权发明专利4项，获得省级教学成果奖2项（2021、2022年）和省级科技进步奖1项（2024年）。
讲座简介：
本报告简要介绍原子层沉积（ALD）技术原理以及该技术在光学器件领域、功率半导体领域、微电子领域（MOSFET逻辑器件/DRAM/闪存/RRAM/FRAM）等的应用。依托省科技重大专项，研制的国产样机在12英寸晶圆上进行高均匀性、高深宽比孔壁结构的ALD共性关键技术研发与工艺验证，以加快工业级国产ALD设备替代进口进程。
