时间：2025年4月25日下午14:30
地点：理工楼18号楼-307学术报告厅
主讲：刘旭，浙江大学极端光学技术与仪器全国重点实验室主任
主办：光电与信息工程学院，医学光电科学与技术教育部重点实验室，福建省光子技术重点实验室
专家简介
刘旭是浙江大学光电子科学与工程学院的长江特聘教授。现任极限光学技术与仪器国家重点实验室主任。 1990 年 7 月，他从法国艾克斯马赛第三大学获得法国科学博士学位，并于 1990 年回国开始在浙江大学光电系工作。他的研究重点是薄膜光学和技术、3D 显示、光学成像和超分辨率技术。他是 310 多篇期刊论文和110 项发明专利的作者或合著者。他在薄膜光学、投影显示和超分辨率显微镜方面的研究成果分别获得国家自然科学奖、国家科技进步奖和国家发明奖。他是国家 973 计划的首席科学家、中国光学学会会士、美国光学学会 （OSA） 和国际光学学会 （SPIE） 的会员。国务院学位委员会光学工程学科召集人，教育部高等学校光电信息工程专业教学指导委员会分委员会主任委员。
讲座简介
随着集成电路芯片技术与光电子技术的发展，对微纳制备技术与装备提出越来越高的要求，不仅精度要求高、三维制备、而且还需要光电混合（多种材料混合制备）、大尺度等，亟需新的技术与装备满足这种发展趋势。激光直写技术是一种能够具备多功能制备，加、减、后处理兼容的微纳制备技术，当然它也面临分辨率低，刻写通量低，速度慢的致命挑战，难以直接应用于现在的集成电路芯片制备。本报告论述了浙江大学在激光三维纳米直写技术方面的研究成果与进展。涉及：如何打破激光直写的分辨率衍射极限，如何克服直写中线线间距远小于直写光斑的问题，如何增大激光直写的通量限制等等关键技术，报告介绍了激光纳米直写装备的能力与各种应用。研究工作表明激光直写制备，可以为人类提供一种全新的微纳制备手段。推进智能微纳制造领域的发展。
